手法証拠記録
Monte Carlo Process Variation
Monte Carlo Process Variation analysis quantifies the impact of manufacturing uncertainties on circuit performance using statistical sampling. As semiconductor technology scales, process variations (gate length, oxide thickness, dopant fluctuations) create significant uncertainties in delay, power, and leakage. Monte Carlo methods sample the random variation space, enabling statistical characterization of yield, timing margins, and reliability. Essential for modern technology nodes.
出典記録
引用は手法の出典記録からそのままコピーされています。それらからレベルごとの検証は推論されません。
Monte Carlo Analysis of Semiconductor Process Variations
分類的手法記録 · process-pipeline / electrical-engineering
- Fishman, G. S. (1996). Monte Carlo: Concepts, Algorithms, and Applications. Springer-Verlag. · DOI 10.1007/978-1-4757-2553-7
- Nassif, S. R. (2003). Modeling and analysis of manufacturing variations. In Proc. CICC (pp. 223-228). IEEE. · DOI 10.1109/cicc.2001.929760
- Agarwal, A., Blaauw, D., Zolotov, V., & Sundareswaran, S. (2005). Statistical timing analysis with dual-Vth devices. IEEE Transactions on VLSI Systems, 13(3), 319-328. · URL
キュレーションされた主張
主張は証拠台帳に永続化され、それぞれが独自の評価を持っています。
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関連手法
手法グラフから生成され、機械が提案した関係として表示されます — 証拠主張は推論されません。