Process / pipelineStatistical circuit analysis
モンテカルロ・プロセス変動解析
モンテカルロ・プロセス変動解析は、統計的サンプリングを用いて製造上の不確実性が回路性能に与える影響を定量化する。半導体技術が微細化するにつれて、プロセス変動（ゲート長、酸化膜厚、ドーパントのばらつき）は、遅延、電力、リーク電流に大きな不確実性を生じさせる。モンテカルロ法は、ランダムな変動空間をサンプリングし、歩留まり、タイミングマージン、信頼性の統計的特性評価を可能にする。現代のテクノロジーノードには不可欠である。
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出典
- Fishman, G. S. (1996). Monte Carlo: Concepts, Algorithms, and Applications. Springer-Verlag. DOI: 10.1007/978-1-4757-2553-7 ↗
- Nassif, S. R. (2003). Modeling and analysis of manufacturing variations. In Proc. CICC (pp. 223-228). IEEE. DOI: 10.1109/cicc.2001.929760 ↗
- Agarwal, A., Blaauw, D., Zolotov, V., & Sundareswaran, S. (2005). Statistical timing analysis with dual-Vth devices. IEEE Transactions on VLSI Systems, 13(3), 319-328. link ↗
このページの引用方法
ScholarGate. (2026, June 3). Monte Carlo Analysis of Semiconductor Process Variations. ScholarGate. https://scholargate.app/ja/electrical-engineering/monte-carlo-process-variation
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