Proses Variasi Monte Carlo
Analisis Proses Variasi Monte Carlo mengukur impak ketidakpastian pembuatan pada prestasi litar menggunakan pensampelan statistik. Seiring penskalaan teknologi semikonduktor, variasi proses (panjang get, ketebalan oksida, turun naik dopan) mewujudkan ketidakpastian ketara dalam kelewatan, kuasa, dan kebocoran. Kaedah Monte Carlo mensampel ruang variasi rawak, membolehkan pencirian statistik hasil, margin masa, dan kebolehpercayaan. Penting untuk nod teknologi moden.
Baca kaedah sepenuhnya
Log masuk dengan akaun percuma untuk membaca bahagian ini.
Method map
The neighbourhood of related methods — select a node to explore.
Sumber
- Fishman, G. S. (1996). Monte Carlo: Concepts, Algorithms, and Applications. Springer-Verlag. DOI: 10.1007/978-1-4757-2553-7 ↗
- Nassif, S. R. (2003). Modeling and analysis of manufacturing variations. In Proc. CICC (pp. 223-228). IEEE. DOI: 10.1109/cicc.2001.929760 ↗
- Agarwal, A., Blaauw, D., Zolotov, V., & Sundareswaran, S. (2005). Statistical timing analysis with dual-Vth devices. IEEE Transactions on VLSI Systems, 13(3), 319-328. link ↗
Cara memetik halaman ini
ScholarGate. (2026, June 3). Monte Carlo Analysis of Semiconductor Process Variations. ScholarGate. https://scholargate.app/ms/electrical-engineering/monte-carlo-process-variation
Which method?
Set this method beside its closest kin and read them side by side — the library lays the books on the table; the choice is yours.
- Penjanaan Corak Ujian AutomatikKejuruteraan Elektrik↔ compare
- Sintesis LogikKejuruteraan Elektrik↔ compare
- Analisis Pemasaan StatikKejuruteraan Elektrik↔ compare
Dirujuk oleh
Terjumpa masalah pada halaman ini? Laporkan atau cadangkan pembetulan →