Monte Carlo -prosessivaihteluanalyysi
Monte Carlo -prosessivaihteluanalyysi kvantifioi valmistuksen epävarmuuksien vaikutuksen piirin suorituskykyyn tilastollisen otannan avulla. Puolijohdeteknologian skaalautuessa prosessivaihtelut (portin pituus, oksidipaksuus, seosainevaihtelut) aiheuttavat merkittäviä epävarmuuksia viiveessä, tehonkulutuksessa ja vuodossa. Monte Carlo -menetelmät ottavat otoksia satunnaisesta vaihtelutilasta, mahdollistaen saannon, ajoitusmarginaalien ja luotettavuuden tilastollisen karakterisoinnin. Välttämätön nykyaikaisille teknologiasolmuille.
Lue koko menetelmä
Kirjaudu sisään maksuttomalla tilillä lukeaksesi tämän osion.
Method map
The neighbourhood of related methods — select a node to explore.
Lähteet
- Fishman, G. S. (1996). Monte Carlo: Concepts, Algorithms, and Applications. Springer-Verlag. DOI: 10.1007/978-1-4757-2553-7 ↗
- Nassif, S. R. (2003). Modeling and analysis of manufacturing variations. In Proc. CICC (pp. 223-228). IEEE. DOI: 10.1109/cicc.2001.929760 ↗
- Agarwal, A., Blaauw, D., Zolotov, V., & Sundareswaran, S. (2005). Statistical timing analysis with dual-Vth devices. IEEE Transactions on VLSI Systems, 13(3), 319-328. link ↗
Näin viittaat tähän sivuun
ScholarGate. (2026, June 3). Monte Carlo Analysis of Semiconductor Process Variations. ScholarGate. https://scholargate.app/fi/electrical-engineering/monte-carlo-process-variation
Which method?
Set this method beside its closest kin and read them side by side — the library lays the books on the table; the choice is yours.
- Automaattinen testikuvioiden generointiSähkötekniikka↔ compare
- LogiikkasynteesiSähkötekniikka↔ compare
- Staattinen ajoitusanalyysiSähkötekniikka↔ compare
Tähän viittaavat
Huomasitko virheen tällä sivulla? Ilmoita siitä tai ehdota korjausta →